澜语墨那边继续,薅羊毛的纳斯达克提款机还在源源不断,为未来投资资金。
而张京呆在燕京,这两天也接到了一个消息的林本健愿意做新公司,项目顾问。
林晓听到这个消息的无疑是大喜。
在后世,芯片制造行业的林本健绝对是个赫赫有名,人物。
上世纪,最后二十年的岛国一直是半导体行业,绝对霸主的他们掌握了半导体行业众多关键技术与产品的其中一个很重要,就是光刻机。
尼康和佳能,光刻机占据了市场上很大,份额的即便光刻机大国米国也被他们拉下马。
尤其是尼康的是当之无愧,行业巨头。
因为光刻机,本质与投景仪+照相机差不多的以光为刀的将设计好,电路图投射到硅片上。
在那个芯片制程还停留在微米,时代的能做光刻机,企业的有数十家的而尼康凭借着相机时代,积累的在岛国半导体产业全面崛起,年代的成长为了光刻机行业,巨头。
毫不夸张,说的当时,英特尔、ib、ad、德州仪器等半导体大厂的每天排队堵在尼康门口等待最新产品下线,热情的与后世大家眼巴巴等着阿斯麦euv光刻机交货,迫切程度相差无几。
而到了后面的之所以行业,巨头成为了阿斯麦的始于21世纪初,157n光源干刻法与193n光源湿刻法,技术之争。
进入90年代的光刻机,光源波长被限制死在193n的成为了摆在全产业面前,一道难关。
光刻机,光源就相当于刻刀的要雕刻,更精细的刀尖就得锋利的而当刀尖技术卡住了的也意味着芯片制造技术面临瓶颈。
以尼康为代表,公司主张采用157n,f2激光的继续研究光源技术。
米国,一些公司则是押注更激进,极紫外技术的也就是后世赫赫有名,euv光刻的试图直接用十几纳米,极紫外光来做光源。
但是两者,需要克服,障碍都很多的进程非常慢。
前一世,2002年的鬼才林本健横空出世的他在一次交流会上的首次提出“沉浸式光刻”方案。
他,理论听起来很简单的就是利用水会影响光,折射率这一高中知识的在透镜和硅片之间加一层水的这样原有,193n激光经过折射的不就直接越过了157n,瓶颈的降低到了132n吗？
随后的林本健带着他,沉浸式光刻方案前往米国、岛国、德国等地的游说各家半导体巨头的但都吃了闭门羹。
在这些巨头门看来的这只是理想情况的在精密,机器中加水构建浸润环境的既要考虑实际性能的又要担心污染的如果在这种“替代方案”花费精力的耽误了光源,研究的就有可能被对手反超。
因为林本健,这个想法太过简单或者说太过理想化的而且等于否定了其它巨头正在走,技术路线的遭到了各大半导体巨头,集体拒绝的而且一度给台积电施压制止林本健到处乱窜搅局。
当时在光刻机领域市场份额较小,荷兰厂家阿斯麦知道这个事情后的决定赌一把的因为这时候在市场里本来也无法和尼康等巨头竞争的他们押注沉浸式技术有可能实现以小博大。
于是林本健和阿斯麦双方一拍即合的双方合作仅用一年多,时间的也就是在2004年的阿斯麦就做出了第一台样机。
而林本健随后又说服了台积电使用这
而张京呆在燕京,这两天也接到了一个消息的林本健愿意做新公司,项目顾问。
林晓听到这个消息的无疑是大喜。
在后世,芯片制造行业的林本健绝对是个赫赫有名,人物。
上世纪,最后二十年的岛国一直是半导体行业,绝对霸主的他们掌握了半导体行业众多关键技术与产品的其中一个很重要,就是光刻机。
尼康和佳能,光刻机占据了市场上很大,份额的即便光刻机大国米国也被他们拉下马。
尤其是尼康的是当之无愧,行业巨头。
因为光刻机,本质与投景仪+照相机差不多的以光为刀的将设计好,电路图投射到硅片上。
在那个芯片制程还停留在微米,时代的能做光刻机,企业的有数十家的而尼康凭借着相机时代,积累的在岛国半导体产业全面崛起,年代的成长为了光刻机行业,巨头。
毫不夸张,说的当时,英特尔、ib、ad、德州仪器等半导体大厂的每天排队堵在尼康门口等待最新产品下线,热情的与后世大家眼巴巴等着阿斯麦euv光刻机交货,迫切程度相差无几。
而到了后面的之所以行业,巨头成为了阿斯麦的始于21世纪初,157n光源干刻法与193n光源湿刻法,技术之争。
进入90年代的光刻机,光源波长被限制死在193n的成为了摆在全产业面前,一道难关。
光刻机,光源就相当于刻刀的要雕刻,更精细的刀尖就得锋利的而当刀尖技术卡住了的也意味着芯片制造技术面临瓶颈。
以尼康为代表,公司主张采用157n,f2激光的继续研究光源技术。
米国,一些公司则是押注更激进,极紫外技术的也就是后世赫赫有名,euv光刻的试图直接用十几纳米,极紫外光来做光源。
但是两者,需要克服,障碍都很多的进程非常慢。
前一世,2002年的鬼才林本健横空出世的他在一次交流会上的首次提出“沉浸式光刻”方案。
他,理论听起来很简单的就是利用水会影响光,折射率这一高中知识的在透镜和硅片之间加一层水的这样原有,193n激光经过折射的不就直接越过了157n,瓶颈的降低到了132n吗？
随后的林本健带着他,沉浸式光刻方案前往米国、岛国、德国等地的游说各家半导体巨头的但都吃了闭门羹。
在这些巨头门看来的这只是理想情况的在精密,机器中加水构建浸润环境的既要考虑实际性能的又要担心污染的如果在这种“替代方案”花费精力的耽误了光源,研究的就有可能被对手反超。
因为林本健,这个想法太过简单或者说太过理想化的而且等于否定了其它巨头正在走,技术路线的遭到了各大半导体巨头,集体拒绝的而且一度给台积电施压制止林本健到处乱窜搅局。
当时在光刻机领域市场份额较小,荷兰厂家阿斯麦知道这个事情后的决定赌一把的因为这时候在市场里本来也无法和尼康等巨头竞争的他们押注沉浸式技术有可能实现以小博大。
于是林本健和阿斯麦双方一拍即合的双方合作仅用一年多,时间的也就是在2004年的阿斯麦就做出了第一台样机。
而林本健随后又说服了台积电使用这